超小型シリコンレーザー開発！１万分の１以下の面積！

これまでの１万分の１以下の面積の超小型シリコンレーザーの開発に、京都大工学研究科の野田進教授や大学院生の乾善貴さん、大阪府立大の高橋和講師らのグループが成功しました。

集積回路を光で接続、制御することを可能にする技術で、コンピューターや情報通信機器の飛躍的な高性能化が期待できます。

コンピューターなどの頭脳である集積回路はシリコンでできています。

シリコンで光を発するのは難しいため、データ伝送速度が低い銅線で配線しています。

グループは、たくさんの微小な穴（直径２５０ナノメートル）を開けた「フォトニック結晶」をレーザー素子として用いました。

結晶に光を入れると、穴の間隔が不均等な場所に光が閉じ込められ、結晶の熱振動と相互作用して光が放出される「ラマン効果」によって、レーザー光が発生。

一辺１０マイクロメートル（マイクロは１００万分の１）以下で、米インテル社が発表したシリコンレーザーの１万分の１の面積。

野田進教授は「素子に電流を入れてもレーザー光が発生できるのではないか。光と電子が融合した理想のシリコンチップへの道が開けた」と話してくれました。